Characterization of ultra-thin tungsten layers

Martínek, Tomáš; Kudělka, Josef; Navrátil, Milan; Fořt, Tomáš; Křesálek, Vojtěch

Název:

Autor:

Martínek, Tomáš; Kudělka, Josef; Navrátil, Milan; Fořt, Tomáš; Křesálek, Vojtěch

Typ dokumentu:

Recenzovaný odborný článek (English)

Zdrojový dok.:

International Journal of Applied Engineering Research. 2016, vol. 11, issue 11, p. 7523-7525

ISSN:

0973-4562 (Sherpa/RoMEO, JCR)

Journal Impact This chart shows the development of journal-level impact metrics in time

JCR	Journal Citation Reports - Impact Factor
SNIP	SCImago Source Normalized Impact per Paper
SJR	SCImago Journal Rank
IPP	SCImago Impact per Publication
CS	Scopus CiteScore

(Note: The metrics are not comparable against one another.)

Abstrakt:

Atomic force microscopy and surface resistivity measurement were used for characterization of ultra-thin tungsten layers deposited on purified silicon with 200 nm thermic silicon dioxide substrate. Radio-frequency magnetron sputtering was used for tungsten deposition. © Research India Publications.

Plný text:

https://www.ripublication.com/Volume/ijaerv11n11.htm

Zobrazit celý záznam

Soubory tohoto záznamu

Název: Fulltext_1007163.pdf

Velikost: 895.0Kb

Formát: PDF

Popis: fulltext

Zobrazit/otevřít

Citace ČSN ISO 690:2011

Citace článku v časopise:
MARTÍNEK, Tomáš, Josef KUDĚLKA, Milan NAVRÁTIL, Tomáš FOŘT a Vojtěch KŘESÁLEK. Characterization of ultra-thin tungsten layers. International Journal of Applied Engineering Research [online]. 2016, vol. 11, iss. 11, s. 7523-7525. [cit. 2025-10-29]. ISSN 0973-4562. Dostupné z: https://www.ripublication.com/Volume/ijaerv11n11.htm.

Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.